Muhtasari wa Molecular Beam Epitaxy (MBE)
Teknolojia ya Molecular Beam Epitaxy (MBE) ilitengenezwa katika miaka ya 1950 ili kuandaa nyenzo za filamu nyembamba za semiconductor kwa kutumia teknolojia ya uvukizi wa utupu.Pamoja na maendeleo ya teknolojia ya utupu ya juu-juu, matumizi ya teknolojia yamepanuliwa kwenye uwanja wa sayansi ya semiconductor.
Msukumo wa utafiti wa vifaa vya semiconductor ni hitaji la vifaa vipya, ambavyo vinaweza kuboresha utendaji wa mfumo.Kwa upande mwingine, teknolojia mpya ya nyenzo inaweza kutoa vifaa vipya na teknolojia mpya.Molecular boriti epitaksi (MBE) ni teknolojia ya juu ya utupu kwa ukuaji wa safu ya epitaxial (kawaida semiconductor).Inatumia miale ya joto ya atomi chanzo au molekuli zinazoathiri sehemu ndogo ya fuwele.Sifa za utupu za hali ya juu za mchakato huruhusu utengamano wa in-situ na ukuaji wa nyenzo za kuhami joto kwenye nyuso mpya za semicondukta, na kusababisha miingiliano isiyo na uchafuzi wa mazingira.
Teknolojia ya MBE
Epitaksi ya boriti ya molekuli ilitekelezwa katika utupu wa juu au utupu wa juu sana (1 x 10).-8Pa) mazingira.Kipengele muhimu zaidi cha epitaksi ya boriti ya molekuli ni kiwango chake cha chini cha utuaji, ambacho kwa kawaida huruhusu filamu kukua kwa kasi ya chini ya 3000 nm kwa saa.Kiwango cha chini kama hicho cha utuaji kinahitaji utupu wa juu wa kutosha kufikia kiwango sawa cha usafi kama mbinu zingine za uwekaji.
Ili kukidhi ombwe la juu zaidi lililoelezewa hapo juu, kifaa cha MBE (seli ya Knudsen) kina safu ya kupoeza, na mazingira ya utupu ya juu zaidi ya chumba cha ukuaji lazima yadumishwe kwa kutumia mfumo wa mzunguko wa nitrojeni kioevu.Nitrojeni kioevu hupoza halijoto ya ndani ya kifaa hadi 77 Kelvin (−196 °C).Mazingira ya joto la chini yanaweza kupunguza zaidi maudhui ya uchafu katika utupu na kutoa hali bora kwa utuaji wa filamu nyembamba.Kwa hivyo, mfumo maalum wa mzunguko wa kupozea nitrojeni kioevu unahitajika kwa kifaa cha MBE kutoa ugavi unaoendelea na thabiti wa -196 °C naitrojeni kioevu.
Mfumo wa Kupoeza kwa Nitrojeni ya Kioevu
Mfumo wa mzunguko wa kupozea nitrojeni kioevu cha utupu ni pamoja na,
● tank ya cryogenic
● bomba kuu na la tawi lenye jaketi ya utupu / hose yenye jaketi ya utupu
● Kitenganishi cha awamu maalum cha MBE na bomba la kutolea nje lililo na jaketi ya utupu
● valves mbalimbali za utupu
● kizuizi cha gesi-kioevu
● chujio chenye koti la utupu
● mfumo wa pampu ya utupu inayobadilika
● Kupoza kabla na kusafisha mfumo wa kuongeza joto
Kampuni ya HL Cryogenic Equipment imegundua hitaji la mfumo wa kupoeza wa nitrojeni kioevu wa MBE, iliyopanga uti wa mgongo wa kiufundi ili kufanikiwa kuunda mfumo maalum wa kupoeza wa nitrojeni kioevu wa MBE kwa teknolojia ya MBE na seti kamili ya kizio cha utupu.edmfumo wa bomba, ambao umetumika katika biashara nyingi, vyuo vikuu na taasisi za utafiti.
HL Vifaa vya Cryogenic
HL Cryogenic Equipment ambayo ilianzishwa mwaka 1992 ni chapa inayohusishwa na Kampuni ya Chengdu Holy Cryogenic Equipment nchini China.HL Cryogenic Equipment imejitolea kubuni na kutengeneza Mfumo wa Mibomba ya Uvujaji wa Juu ya Utupu na Vifaa vya Usaidizi vinavyohusiana.
Kwa habari zaidi, tafadhali tembelea tovuti rasmiwww.hlcryo.com, au barua pepe kwainfo@cdholy.com.
Muda wa kutuma: Mei-06-2021